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時(shí)間:2016-01-07 22:47來(lái)源:訊技光電作者: 技術(shù)部點(diǎn)擊:次打印
圖10. 定義第一個(gè)反射鏡的孔徑
 
sa的值指定為44mm,這意味著在x和y方向的半孔徑值將是12?讖皆趜方向上的值被選擇的足夠大,以至于不會(huì)裁剪到水平方向上的反射鏡。
 
第一反射鏡的位置定義為距離光源43.84mm(這已經(jīng)創(chuàng)建好了),中心距離光源的下方32mm。
圖11. 系統(tǒng)第一片反射鏡的位置設(shè)定
 
添加到自定義元件中表面的默認(rèn)涂層和光線(xiàn)控制分別是Absorb和Halt All。顯然,這些需要在CoatingRaytrace Control控制選項(xiàng)卡上設(shè)置為Reflect和Reflect Specular。
 
圖12. 反射鏡表面的膜層和光線(xiàn)控制定義
 
添加第二和第三反射鏡
 
具有二次表面的自定義元件將再一次用于定義第二和第三反射鏡。首先將這些反射鏡放置在前一反射鏡的坐標(biāo)系統(tǒng)中,每個(gè)反射鏡的位置可以很容易的確定,然后根據(jù)規(guī)格中定義的厚度參數(shù),在z方向使用一個(gè)平移操作。
 
圖13. 第二面反射鏡相對(duì)于第一面反射鏡的開(kāi)始坐標(biāo)系統(tǒng),使用了—Z方向的平移。
圖14. 前兩個(gè)反射鏡的基準(zhǔn)拋物面和目標(biāo)拋物面的可視化視圖
 
與第一反射鏡不同,后面反射鏡孔徑的位置和大小并沒(méi)有明確的定義。
 
確定合適的孔徑最簡(jiǎn)單的方法是沿著系統(tǒng)的光軸到第二反射鏡的表面追跡一束光線(xiàn)。表面上入射點(diǎn)處光線(xiàn)的垂直位置確定了孔徑的Y中心值,根據(jù)規(guī)格中提供的sa值,孔徑的大小也可以設(shè)置了。
 
圖15. 追跡單條光線(xiàn)到反射鏡表面來(lái)決定中心和半孔徑
 
下面的腳本做到了這一點(diǎn),通過(guò)執(zhí)行定義于26行的高級(jí)光線(xiàn)追跡,停止了表面的光線(xiàn)并且輸出垂直位置到輸出窗口。請(qǐng)注意光源中的““Single Ray Source”只追跡一條光線(xiàn)。(此處腳本的意義相當(dāng)于成像軟件中的由主光線(xiàn)確定表面的位置)
 
圖16. 腳本的主體結(jié)構(gòu)輸出,輸出表面反射鏡相對(duì)于光源的垂直位置。
 
使用該腳本,我們發(fā)現(xiàn),當(dāng)入射到第二個(gè)反射鏡表面時(shí),光線(xiàn)的y坐標(biāo)是y=11mm。同樣我們知道該反射鏡的sa值是17mm,則孔徑有如下設(shè)定:
 
圖17. 第二個(gè)表面反射鏡的孔徑設(shè)置
 
當(dāng)改變腳本的第26行為adv.stopSurfID = mirror_3,并遵循以上的過(guò)程,第三個(gè)反射鏡的位置和形狀就確定了。計(jì)算得到Y(jié)方向的偏移-6.4mm。
 
在像平面添加一個(gè)Plane Element Primitive和Analysis Surface后,系統(tǒng)建模就完成了。
 
執(zhí)行光線(xiàn)追跡的光源定義為由1000條隨機(jī)定位的網(wǎng)格,分布在x和y均為10mm的半孔徑內(nèi),均勻分布的波長(zhǎng)范圍是420nm-650nm。
  
圖18. 光源的設(shè)定
 
圖19. 在可視化視圖中完整的光學(xué)系統(tǒng)
 
圖 20. 光線(xiàn)追跡渲染
 
在像平面繪制的位置點(diǎn)圖表明有+/- 2mm的擴(kuò)展,因此證實(shí)了這是一個(gè)5倍望遠(yuǎn)系統(tǒng)的規(guī)格要求。
圖21. 位置點(diǎn)列圖顯示像平面的尺寸是光源的尺寸的1/5。
備注
 
1. Modern Lens Design: A Resource Manual中的參考來(lái)源
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