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元件內(nèi)部場(chǎng)分析儀:FMM

摘要

                              

 

Field Inside Component Analyzer: FMM使用戶能夠分析電磁場(chǎng)在微納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部的分布。為此，任意周期結(jié)構(gòu)(包括透射和反射、介質(zhì)或金屬光柵)內(nèi)的場(chǎng)通過應(yīng)用傅里葉模態(tài)方法/嚴(yán)格耦合波分析法(FMM/RCWA)來計(jì)算。還可以指定場(chǎng)的哪一部分應(yīng)該可視化:前向傳播的場(chǎng)、后向傳播的場(chǎng)或兩者都要可視化。

 

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元件內(nèi)部場(chǎng)分析儀:FMM是光柵光學(xué)設(shè)置的專用功能，可提供光柵結(jié)構(gòu)內(nèi)部電磁場(chǎng)的可視化。

 

評(píng)估模式

                                                      

 

為了更容易地區(qū)分入射場(chǎng)、反射場(chǎng)和透射場(chǎng)，可以只計(jì)算前向或后向傳播模式，或兩者的結(jié)合。 



          前向傳播模式                    后向傳播模式             前向和后向傳播模式

 

評(píng)估區(qū)域                                                     

 

 

光柵類型                                                                 

 

元件內(nèi)部場(chǎng)分析儀可以對(duì)任意形狀的光柵結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析。這里有幾個(gè)例子。

 

光柵表面采樣

    

 

光柵表面采樣                                                                  

 

對(duì)光柵結(jié)構(gòu)進(jìn)行充分的采樣意味著采樣效應(yīng)不應(yīng)明顯地影響產(chǎn)生的場(chǎng)。例如，如果RCWA層分解太粗糙，則可能會(huì)由于剖面中的大采樣間隔而產(chǎn)生額外的影響。