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高NA物鏡聚焦的分析

摘要

 

高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對這種鏡頭進(jìn)行光線追跡和場追跡分析非常方便。通過場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。

 

 

建模任務(wù)

 

概觀

 

光線追跡仿真

 

•首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。

 

光線追跡仿真

 

 

 

場追跡仿真

 

 

 

場追跡結(jié)果（攝像機探測器）
 

場追跡結(jié)果（電磁場探測器）

 

文件信息

 

 

更多閱覽
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination